رطوبت از جمله مهمترین کمیت هایی است که باید مقدار دقیق آن در بسیاری از محیط ها اندازه گیری و کنترل شود. اندازه گیری و کنترل رطوبت در بسیاری از کاربردها مانند ساخت تولیدات حساس به رطوبت، مخازن نگهداری، اتاق های کامپیوتر، مدیریت انرژی، بیمارستان ها، موزه ها، صنایع نساجی، پزشکی، کشاورزی و کتابخانه ها اهمیت زیادی پیدا کرده است. انواع مختلفی از حسگرهای رطوبت بر اساس سازوکارهای حسگری مقاومتی، خازنی، ...

آندایز نرم بر اساس فرایند آندایز دو مرحله ای است که زمان این فرایند 10 ساعت طول می کشد و نانوحفره های خود آرایه فقط در رنج محدودی از ولتاژ به دست می آیند. در این روش نانوحفره های خود آرایه در 25 ولت، 40 ولت و 195 ولت به ترتیب در اسید سولفوریک، اسید اکسالیک و اسید فسفریک به دست می آید. آندایز سخت که به عنوان روش ساخت سریع به کار می رود در رنج وسیعی از اندازه حفره ها و فاصله بین حفره ای کاربرد دا...

نانوحسگرهای رطوبت بر اساس نانو حفره های آلومینا به روش جدید آندیزاسیون سخت مطالعه شد. برای بررسی اثر میزان آنیون های اسیدی موجود در قسمت های مختلف آلومینا بر حساسیت نانوحسگر، دو نوع حسگر دیواره و لایه سدی در دو چگالی جریان متفاوت با ولتاژهای آندیزاسیون 38 و 44 ولت ساخته شد. اثر فرکانس در بازه 3 تا 40 کیلوهرتز در ولتاژهای مختلف و در دامنه های رطوبت نسبی 40 تا 90 درصد بر حساسیت و زمان های پاسخ و ...

در این پایان نامه فویل اکسید آلومینیم نانومتخلخل ساخته شده و تأثیر پارامترهای آزمایشگاهی غلظت الکترولیت، ولتاژ آندیزاسیون، زمان آندیزاسیون و زمان پهنش حفره ای بر مشخصه های ساختاری تخلخل ها از قبیل اندازه حفره ها، ضخامت دیواره ای، فاصله بین حفره ای و چگالی حفره ای مورد بررسی قرار گرفت. خلوص آلومینیم 27/94 درصد بوده که خلوص خیلی پایینی محسوب می شود. مشخصه یابی ساختار تخلخلی ایجاد شده توسط میکروسک...

مواد نانوساختار، به علت ویژگی های ابعادیشان، پتانسیل فراوانی برای کاربردهای تکنولوژیکی دارند. این طرح تحقیق، متمرکز بر تولید نانوحفره های اکسید آلومینیوم با نظم بالا و نانوسیم های مس در داخل آن، می باشد. ابتدا، روش های تولید مواد نانوساختار، برهم کنش های وان دروالس میان آنها و روش های آندیزاسیون آلومینا مورد مطالعه قرار گرفت. سپس نانوحفره های آلومینا در آزمایشگاه با استفاده از روش آندایز اکسید ...

در این تحقیق مورفولوژی، خواص ساختاری، اپتیکی و فوتوالکتروشیمیایی نانوساختارهای دی-اکسیدتیتانیوم (2tio) رشد داده شده به روش آندیزاسیون شیمیایی را بر روی ورقه تیتانیوم مورد بررسی قرار دادیم. در این بررسی برای مشخصه یابی نمونه های خود از دستگاه های مختلف شامل: میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی( fesem)، پراش پرتو x (xrd)، فوتولومینسانس (pl) و اندازه گیری جریان-ولتاژ استفاده کرده ایم. نمونه ها...

نانو و میکروساختارهای سیلیکان متخلخل شامل منافذ ماکرو، بر روی سیلیکان نوع p به روش آندیزاسیون الکتروشیمایی در الکتروشیمایی درالکترولیت شامل dmf و اسید hfایجاد گرید تاثیر پارامترهایی همچون زمان آندیزاسیون چگالی جریان و غلظت الکترولیت هم بر ساختار تخلخل و هم بررسانایی سیلیکان متخلخل در حضور گاز و در هوای محیط بررسی شده است. همچنین در انی کار ما بر مطالعه ی نانو ساختارهای سیلیکان متخلخل دارای حفر...

سیلیکان ‏‎si‎‏ از جمله نیمه رساناهایی است که کاربرد وسیعی در صنعت الکترونیک دارد اما همین عنصر به علت داشتن گاف غیرمستقیم ، دارای خواص ضعیف اپتیکی بوده و جایگاهی در کاربردهای اپتیکی ندارد.یکی از راههایی که می توان بدان طریق در سیلیکان خواص اپتیکی بوجود آورد، کوچک کردن ساختار ‏‎si‎‏ است، به حدی که اثرات کوانتومی در ساختار نواری آن بکار آید. به این ساختار ، سیلیکان متخلخل ‏‎ps‎‏ گفته می شود . لای...

در این کار، نانو و میکروساختارهای سیلیکان متخلخل شامل منافذ ماکرو، بر روی سیلیکان نوع p به روش آندیزاسیون الکتروشیمیایی در الکترولیت شامل dmf و اسید hf، ایجاد گردید. همچنین نانوساختارهای سیلیکان متخلخل شامل منافذ مزو به وسیله ی آندی سازی سیلیکان تک بلوری در محلول اسیدهیدروفلوریک و اتانول به دست می آید. تأثیر پارامترهایی همچون زمان آندی سازی، چگالی جریان و غلظت الکترولیت هم بر ساختار تخلخل و هم ...

برای ساخت سیلیکان متخلخل از ویفر سیلیکان نوع p با مقاومت -cm? 10-1 و با جهت بلوری (100) استفاده شده است. تخلخل بوسیله فرآیند الکتروشیمیایی، در محلول حاوی اسید hf و اتانول و با نسبت حجمی (1:1) صورت گرفته است. در طول زمان آندیزاسیون تمامی عوامل موثر بر میزان تخلخل مانند جنس سیلیکان زیر لایه، نوع محلول، شرایط محیط ( روشنایی، دمای محیط، میزان رطوبت) و چگالی جریان ثابت نگاه داشته شده و تنها با تغبیر...